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PVD800离子注入及多靶共溅射镀膜V1.0

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功能: 可满足合金膜，单层膜，多层膜，导电膜，非导电膜和反应溅射的需求。特别适用于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬膜、固体润滑膜、自清洁膜等领域的前沿研究。还具有磁控溅射、离子注入和磁过滤电弧沉积的功能。