产品展示
Successful Case
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3D激光添加剂真空环境室
设备具有可视化程度高、操作方便、性能稳定的特点，防止材料在空气中氧化，增加焊料的流动性，减少焊接气孔、夹渣等焊接缺陷，特别适用于激光操作镍基、钛基及钴基特种材料。2024-05-10 -
磁控溅射平面阴极
圆形平面磁控溅射阴极是公司引进消化吸收的国际一流产品。它是与国内知名磁性材料研发机构合作开发的，与进口产品没有明显差异。2024-05-10 -
超越系列真空热处理，钎焊炉
该设备用于电子设备在真空中的焊接，退火，回火和脱气过程。2024-05-10 -
空间环境模拟设备
公司研发制造大型空间环境模拟装置，可模拟高真空、超高真空、失重、高低温、热沉、辐射等空间环境，具有直径1m-5m的大型环境模拟仓库研发、设计、制造能力。2024-06-15 -
研究-电子束蒸发镀膜
该设备是电阻，电子束或电阻电子束复合涂层系统，与IBE等离子蚀刻和在线辅助涂层兼容。过流元件全部采用SUS304，真空系统后置，配备标准配置分子泵系统，配备标准工业人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，可满足工业2024-05-10 -
研究-热蒸发真空镀膜
本设备可配备电阻、电子束或电阻电子束复合涂层系统。过流元件全部采用SUS304，真空系统后置，配备标准配置分子泵系统，配备标准工业人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，可以满足工业客户小批量生产和科学研究的需求2024-05-10 -
超越电磁耦合磁控溅射
本设备由公司根据客户的工艺要求定制。它是与中国科学院某研究所国家重点实验室共同开发的。先后获得国家级奖项3项，联合申请国家专利2项。用于固体润滑、防腐和超硬表面改性。它服务于科学研究和国家重大项目的需要。它具有多功能的特点，嗨2024-05-10 -
研究-磁控溅射镀膜
该设备用于制备纳米级单层或多层薄膜，类金刚石碳膜，金属膜，导电膜，半导体膜和非导电膜。它可以实现共溅射，直流和射频兼容。特别适用于科研院所和企业开展功能膜的研发、教学和新产品开发。同时，它可以在微米级粉末上沉积薄膜2024-05-10 -
IBE等离子蚀刻
该系统是一种台式离子束蚀刻系统，手动放膜和取膜，并通过触摸屏自动实现过程控制。该系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计、维护方便、成本低等优点。该系统的所有核心组件都是自行开发的。2024-05-10
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