- 离子束: 高达5KV/10mA
- 离子电流密度100-360uA/cm2
- 离子束直径: 4 "，5"，6"
- 兼容的反应性和非反应性气体 (Ar、O2、CF4、Cl2)
- 极限真空5x10-5Pa
- 80l/s涡轮分子泵，500 l/min干泵串联
- 12 "不锈钢墨盒，上部翻转机构
- 水冷旋转/倾斜样品台
产品应用: 表面处理，离子铣削，等离子表面清洁，用反应气体进行离子束蚀刻: 光栅蚀刻，以及SiO2，Si和金属的深槽蚀刻。
IBE等离子蚀刻
该系统是一种台式离子束蚀刻系统，手动放膜和取膜，并通过触摸屏自动实现过程控制。该系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计、维护方便、成本低等优点。该系统的所有核心组件都是自行开发的。
