刻蚀设备在半导体行业中占据着至关重要的地位，可以实现纳米级的精密刻蚀。对复杂微结构的器件加工，微电子器件的制造提供重要支持，在芯片领域发挥着关键作用。该设备支持定制研发生产，具体请与我们联系沟通。
RIE等离子体刻蚀
反应离子刻蚀 (RIE) 是一种用于制备微纳结构的等离子体刻蚀技术。在蚀刻过程中，低压等离子体产生高能离子和自由基，这些离子和自由基与样品表面反应以产生挥发性化合物。在从样品表面提取这些挥发性化合物之后，样品表面实现各向同性或各向异性形态。使用RIE可以蚀刻许多材料，通过优化蚀刻参数可以获得更好的结果
