真空室: SUS304不锈钢钟形或前门,双层水冷室,可根据客户要求定制,公司标准产品有 & phi;300、 & phi;500、 & phi;600、 & phi; 900毫米;
真空系统: 涡轮分子泵为主泵,油封旋片式机械泵机械助力器罗茨泵机组为前置真空系统,可选择全干式无油真空系统;
极限压力: 优于5 x10-5pa,泄漏率优于10-6Pa.L/S,除常开部分外均采用CF金属密封连接,电气引入采用陶瓷密封部件;
热丝加热组件: 加热选用钨丝,加热功率根据客户要求定制,钨丝表面温度为2000 ℃,热丝与基板距离手动可调,加热电压: 48v,选用优质变压器和功率控制器;
工件圆盘: 根据客户需求定制,基板安装位置与气体分配系统之间的距离可调,科研级为全圆盘工件圆盘,工业级根据客户实际需求定制;
基板偏置: 可加-200V-0V可调偏置电源; (可选)
基板烘烤: 最高烘烤温度为700 ℃,PID闭环控制,温度控制精度为1 ℃,超调量不太高2 ℃,加热曲线可调;
气路系统: 配备4套气体质量流量计,4-20MA反馈回路,& phi;6.35BA毛细管气路控制系统,气动VCR全金属密封管路及阀门;
辅助系统: 1台空气压缩机和1台科研级冷水机组。
特别说明: 根据用户不同的工作条件和工艺要求,公司愿意与客户共同开发,共享知识产权。
研究-RIE干法刻蚀
反应离子刻蚀 (RIE) 是一种用于制备微纳结构的等离子体刻蚀技术。在蚀刻过程中,低压等离子体产生高能离子和自由基,这些离子和自由基与样品表面反应以产生挥发性化合物。在从样品表面提取这些挥发性化合物之后,样品表面实现各向同性或各向异性形态。使用RIE可以蚀刻许多材料,通过优化蚀刻参数可以获得更好的结果