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PVD450磁控溅射镀膜V2.0

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该设备用于制备纳米级单层或多层薄膜，类金刚石碳膜，金属膜，导电膜，半导体膜和非导电膜。它可以实现共溅射，直流和射频兼容。特别适用于科研院所和企业开展功能膜的研发、教学和新产品开发。同时，它可以在微米级粉末上沉积薄膜