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PVD900电磁耦合离子镀膜V2.0

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设备主要由真空室，真空系统，工件盘系统，烘烤系统，溅射系统，离子轰击系统，充气系统和在线测量系统组成。同时，它与空气压缩气体源和水冷系统相匹配，可以根据客户的要求定制。

特别说明:该设备由公司与中科院某所合作研制，获国家科技进步奖、国家科技发明奖、机械行业科技进步一等奖等国家级奖励，和中国科学院重大装备专项。公司提供一揽子技术解决方案，与合作伙伴共享知识产权。
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