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PECVD450化学气相沉积V1.0

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本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术,在玻璃、硅、石英等金属衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅、微晶硅等功能薄膜,制备非晶硅、微晶硅薄膜太阳能电池器件,并且还可用于在工件上制备超硬薄膜。广泛应用于高校、科研院所和企业