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RIE等离子体刻蚀

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反应离子刻蚀 (RIE) 是一种用于制备微纳结构的等离子体刻蚀技术。在蚀刻过程中，低压等离子体产生高能离子和自由基，这些离子和自由基与样品表面反应以产生挥发性化合物。在从样品表面提取这些挥发性化合物之后，样品表面实现各向同性或各向异性形态。使用RIE可以蚀刻许多材料，通过优化蚀刻参数可以获得更好的结果
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